TWINSCAN NXT:2000i 為高級邏輯和 DRAM 節點的大批量製造提供出色的覆蓋、聚焦控制和交叉匹配。

主要特點和優勢

TWINSCAN NXT:2000i 是一種高生產率的雙級浸沒式光刻工具，專為在先進節點批量生產 300 毫米晶圓而設計。
該系統配備了直列式折反射透鏡設計，數值孔徑 (NA) 為 1.35，是業內最高的。
該系統還包括用於改進疊加、焦點控制和交叉匹配的硬體創新。
專為與 EUV 混合搭配使用而設計，其模組化設計允許從前幾代升級，並在未來繼續升級。

01. 生產力
TWINSCAN NXT:2000i 擁有高生產率和低缺陷率。該系統的領先生產力目前為每天 4,600 片晶圓，這一成就是通過提供可選應用程式來實現的，這些應用程式允許系統優化掃描器晶圓處理時間並減少特定用例的批量開銷。
該系統顯示出有史以來最快的成熟度，在短短 2 個月內就達到了 150 小時的可靠性（上一代為 6 個月）。

02. 光學
TWINSCAN NXT:2000i 包括一個 1.35 NA 193 nm 折反射投影鏡頭，可實現低至 40 nm（C-quad）和 38 nm（偶極子）的生產解析度，以及支持全 26 x 33 mm 視場大小、4X減少和與現有設計的標線相容性。
FlexRay Prepared Illuminator 擴展了傳統和離軸照明的範圍，以實現用於低 k1 成像的高級瞳孔整形。

03. 成像性能
NXT:2000i 可以實現 2.5 nm 交叉匹配的產品覆蓋。新的 ORION 對準感測器提供更準確的對準測量和增強的工藝穩健性，以獲得更好的覆蓋性能。
此外，新的紫外線水準感測器標記 2 (UVLS-2) 提供更準確的水準測量，從而提高成像性能。
最後，對晶圓臺平面度、耐久性和夾持機制的改進增強了系統與 EUV 的匹配。