TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan 系统是一種高生產率的雙極浸沒式光刻工具，專為45 奈米級以下分辨率的 300 毫米晶圆批量生產而設計。

XT：1900Gi採用蔡司星石1900i浸沒鏡頭。這是現有的大型ArF鏡頭，在1.35NA時，它推動了水基ArF浸入式平版印刷達到極限。结合ASML的Ultra-k1產品组合，它提供了行業最低的可用k1值，它可以實現40nm及以下的半間距分辨率。

XT：1900Gi採用新的测量和曝光周期，它為浸入式光刻设定了一個新的基準，每小時生產131個晶片。