介紹：ASML AT-850晶圓步進器是一種高精度的機器，設計用於暴露集成電路模式，以在半導體制造業中創建光掩模和標線。這臺機器具有先進的技術，使它能夠以高精度完成高級曝光任務。設備由主體框架、定位光學系統、控制單元和兩個二色鏡組成。主體框架由一個帶有三個門架的平臺組成，允許以手頭任務所需的方式放置多達三個曝光源。光學機器由四個對稱源反射鏡、兩個中間成像反射鏡和一個最終成像透鏡組成。這四個源反射鏡用於精確調整光學工具的對準和放大比。二色鏡用於選擇性種類的光譜辨別，允許使用單個曝光光束來選擇性暴露晶圓上的多個位置。ASML AT 850配備了先進的計算機控制控制資產，可以設置精確的曝光參數。這種控制模聖藻參評精確調整曝光傳感器，確保設備產生的圖像精確遵循編程的規格。最後，它還提供了一個高級軟體，用於創建用於對機器進行編程的數字地圖。

AT-850是需要高精度和高精度曝光的半導體制造工藝的絕佳選擇。其先進的光學系統提供了高精度和穩定性，而其計算機控制的控制單元則確保按照編程的規範遵循曝光參數。此外，其強大的軟體允許創建復雜的數字地圖，從而實現最終曝光性能。